สารตั้งต้นบริสุทธิ์สูงสำหรับกระบวนการเคลือบฟิล์มบาง (Thin Film Deposition) โดยใช้ปฏิกิริยาเคมีที่เหนี่ยวนำด้วยความร้อนหรือไฟฟ้าผ่านเทคนิค CVD และ ALD ที่ระเหยได้ง่าย (Volatile) และเสถียรต่อความร้อน เหมาะสมสำหรับอุตสาหกรรมผลิตชิปและเซมิคอนดักเตอร์

ชุดคิท ที่รวบรวมสารเคมีที่มีคุณสมบัติใกล้เคียงกันไว้ในกล่องเดียว ในปริมาณขนาดเล็ก ช่วยให้นักวิจัยสามารถทดสอบหลายเงื่อนไขพร้อมกันในรอบเดียว ช่วยลดระยะเวลา ลดต้นทุน และเพิ่มประสิทธิภาพในการทำ R&D ในการทำ Route Scouting และ Reaction Optimization โดยเฉพาะ

วัสดุโครงข่ายโลหะอินทรีย์ (MOFs) นวัตกรรมวัสดุรูพรุนสูงระดับนาโนเมตร สำหรับงานดูดซับก๊าซ การแยกสารและใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาขั้นสูง

วัสดุนาโนและคาร์บอนขั้นสูง (CNTs), กราฟีน (Graphene), ควอนตัมดอท และอนุภาคนาโนโลหะ ควบคุมขนาดและคุณสมบัติทางไฟฟ้าอย่างแม่นยำ สำหรับงานวิจัยนวัตกรรม วัสดุศาสตร์ และพลังงาน

ตัวเร่งปฏิกิริยาวิวิธพันธุ์และตัวเร่งปฏิกิริยาบนตัวรองรับประสิทธิภาพสูง ง่ายต่อการแยกและกำจัดออกจากระบบ สำหรับงานเคมีสังเคราะห์ทั้งในระดับห้องปฏิบัติการและอุตสาหกรรม ช่วยลดต้นทุนในการผลิตเชิงพาณิชย์

สารประกอบโลหะอินทรีย์และลิแกนด์คุณภาพสูง สำหรับงานสังเคราะห้และการทำปฏิกิริยาที่มีความซับซ้อนและใช้เป็นตัวเร่งปฏิกิริยาเคมี ไม่ว่าจะเป็นกลุ่ม Phosphines, Chiral Ligands และ Organometallic Reagents อื่นๆ ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพในการเข้าทำปฏิกิริยาและได้ผลิตภัณฑ์ที่บริสุทธิ์สุทธิเพิ่มมากขึ้น